高分辨率碳电镀设备价格指数208C(离子喷涂设备涂装设备)

作者:365bet娱乐登录   时间:2019-11-02 09:24
产品相关产品介绍
产品介绍:产品名称:碳涂层高分辨率设备(离子喷涂设备)品牌:CRESSINGTON型号:208 CCressington 208C用于SEM(离子发生器),TEM,STEM,EDS / WDS,EBSD和微探针的高分辨率碳应用设备分析提供高质量的涂层技术。
该系统结构紧凑,占用空间小。
样品室的直径为150毫米,可以在约10分钟的处理循环中快速吸入涂层过程。
超高纯度碳棒在高真空条件下使用,为高分辨率扫描电子显微镜,透射电子显微镜,EBSD和探针分析提供高质量涂层。
部件设计方法使得可以在不同的优化条件下容易地改变用于不同应用的高分辨率碳沉积(离子溅射)的各种性质。
压控碳棒具有多种蒸发能力2。
反馈控制提供精确且恒定的3涂层厚度。
任何操作方法都可用于优化涂层工艺4。
在苛刻的条件下,自动蒸发控制5是可能的。
高分辨率,低成本的薄膜厚度监控器可确保可重复的涂层效果6。
80 L / s分子涡轮泵可快速达到涂覆150 mm直径样品室7所需的真空度。
可选配无油正排量真空泵8。
由于不存在水冷却系统9,因此可以实现成本降低。
没有必要加热或冷却10。
你不需要液氮。
样品制备周期短至12个。
节省空间的高分辨率碳沉积设备(离子溅射)碳蒸发控制208C高分辨率碳沉积(离子溅射)采用完全集成的反馈控制设计,用于Bradley的杆式碳蒸发源独一无二
通过磁控管检测线监测电流和电压,并且控制蒸发源作为反馈回路的一部分。
蒸发器提供了传统碳棒的出色稳定性和可重复性。
能耗低,碳棒表现出不寻常的蒸发特性。
蒸发源使用两级超高纯度碳棒。
蒸发源可以用手动方式“脉冲”或“连续”覆盖。
“脉冲”模式可与MTM-10高分辨率薄膜厚度监测仪配合使用,以获得所需的精确薄膜厚度。
自动模式下操作非常方便,操作者可以通过设定电压和时间获得均匀的涂层效果。
高分辨率208C碳涂层系统(离子溅射)样品室的样品室设计用于适合各种附件。
只需调节工作距离即可轻松调节蒸发距离。
通过精密针阀实现独特的高/低真空压力调节。
高真空用于Zei的高质量涂层,如TEM。
低真空用于扫描电子显微镜中TEM网格的白炽放电清洁和复杂样品的涂覆。
对于SEM,EDS / WDS和探针分析,Rotate-Planet Rotation-Tilt样品台可同时提供多个样品的一致涂层。
旋转倾斜台专门设计用于处理TEM样品,可放置在25 x 75 mm的载玻片上。